[发明专利]高频等离子气相合成石英玻璃的方法有效
| 申请号： | 200510076613.4 | 申请日： | 2005-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN1699232A | 公开（公告）日： | 2005-11-23 |
| 发明（设计）人： | 王玉芬;钟海;宋学富;饶传东;宋小兵;顾真安 | 申请（专利权）人： | 中国建筑材料科学研究院 |
| 主分类号： | C03C8/04 | 分类号： | C03C8/04 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 鲁兵 |
| 地址： | 100024*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种高频等离子体气相合成石英玻璃的方法，包括将持续的等离子体电弧引入作为生产炉的热源，将氧气和四氯化硅气体混合并以持续稳定的流量投入生产炉内靶面上方，生成二氧化硅微粒并沉积至靶面上形成玻璃的步骤。本发明用纯净的等离子体作为热源，没有外界杂质的引入，生产的石英玻璃在全光谱透过率方面有较好的表现，并且在2730nm的光谱透过率较高，其中羟基含量在5ppm甚至更低，该石英玻璃还具有纯度高、玻璃的光学均匀性高等优点，满足用于高质量石英摆片和特种光学材料的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 高频 等离子 相合 石英玻璃 方法 | ||
【主权项】：
1、一种高频等离子体气相合成石英玻璃的方法，包括将持续的等离子体电弧引入作为生产炉的热源，将氧气和四氯化硅气体混合并以持续稳定的流量投入生产炉内靶面上方，生成二氧化硅微粒并沉积至靶面上形成玻璃的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国建筑材料科学研究院，未经中国建筑材料科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510076613.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
