[发明专利]离子束系统以及在该系统中减少衬底的外来物质污染的方法有效

专利信息
申请号: 200510077123.6 申请日: 2005-06-14
公开(公告)号: CN1713334A 公开(公告)日: 2005-12-28
发明(设计)人: 塔沙·德赛;埃利斯·C·海福德;小尼古拉斯·莫尼 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01L21/265
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 朱海波
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种在离子束系统中减少衬底的杂质污染的方法以及一种离子束系统。所述系统包括:真空室,其具有离子束轴;衬底室,其关于倾斜轴自由倾斜,倾斜轴与离子束轴垂直并相交;可伸缩的风箱,其连接衬底室内的一个开口和真空室内的一个开口,两个开口都与离子束轴同轴排列,风箱在衬底室和真空室之间提供真空密封;以及中空的外来物质护罩,其开口于接近真空室的顶部以及接近衬底室的底部,外来物质护罩位于离子束轴和可伸缩的风箱之间,外来物质护罩的顶部和底部与离子束轴同轴排列。
搜索关键词: 离子束 系统 以及 减少 衬底 外来 物质 污染 方法
【主权项】:
1.一种离子束系统,包括:真空室,其具有离子束轴;衬底室,其关于倾斜轴自由倾斜,所述倾斜轴与所述离子束轴垂直并相交;可伸缩的风箱,其连接与所述离子束轴同轴排列的所述衬底室内的一个开口和与所述离子束轴同轴排列的所述真空室内的一个开口,所述风箱在所述衬底室和所述真空室之间提供真空密封;以及中空的外来物质护罩,其开口于接近所述真空室的顶部以及接近所述衬底室最近的底部,所述外来物质护罩位于所述离子束轴和所述可伸缩的风箱之间,所述外来物质护罩的所述顶部和底部与所述离子束轴同轴排列。
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