[发明专利]液晶显示器件的阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 200510077388.6 | 申请日： | 2005-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1716062A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 朴钟振 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/133;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;祁建国 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种液晶显示器件的制造方法，包括通过第一掩模工序在基板上形成栅线、栅极和栅绝缘层，通过第二掩模工序在栅绝缘层上形成有源层、欧姆接触层、源极、漏极和数据线，数据线与栅线相交以限定像素区域，在包含源极和漏极以及数据线的基板的基本整个表面上形成第一钝化层，通过第三掩模工序在有源层上的第一钝化层上形成黑矩阵，通过第四掩模工序在像素区域内的第一钝化层上形成滤色片层，在包括黑矩阵和滤色片层的基板表面上形成第二钝化层，通过第五掩模工序形成光刻胶图案，对光刻胶图案和第二钝化层进行构图以便暴露部分漏极，在包括部分暴露漏极的基板的基本整个表面上形成透明导电层，以及形成像素电极，所述像素电极与暴露的部分漏极相接触。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶显示 器件 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种液晶显示器件的制造方法，包括：通过第一掩模工序在基板上形成栅线和栅极；在包含所述栅线和所述栅极的基板的基本整个表面上形成栅绝缘层；通过第二掩模工序在所述栅绝缘层上形成有源层、欧姆接触层、源极、漏极和数据线，所述数据线与栅线相交以限定像素区域；在包含所述源极和漏极以及所述数据线的基板的基本整个表面上形成第一钝化层；通过第三掩模工序在有源层上方的第一钝化层上形成黑矩阵；通过第四掩模工序在所述像素区域内的所述第一钝化层上形成滤色片层；在包含所述黑矩阵和所述滤色片层的基板的基本整个表面上形成第二钝化层；通过第五掩模工序形成暴露出对应于像素区域和部分漏极的第二钝化层的光刻胶图案；对所述光刻胶图案和第二钝化层下面的第一钝化层所暴露出的第二钝化层进行构图，以便进而暴露出部分漏极；在包含所述暴露出的部分漏极的基板的基本整个表面上形成透明导电层；以及通过去除光刻胶图案和光刻胶图案上的透明导电层在像素区域内形成像素电极，所述像素电极与暴露出的部分漏极相接触。
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