[发明专利]半导体工艺的成膜装置以及方法

摘要

本发明提供一种半导体处理用的成膜装置，包括向处理容器内供给用于在被处理基板上堆积薄膜的原料气体的原料气体供给系统、以及向处理容器内供给用于向薄膜中导入杂质的掺杂气体和用于稀释掺杂气体的混合气体的混合气体供给系统。混合气体供给系统包括：用于混合掺杂气体和稀释气体以形成混合气体并设置在处理容器外的气体混合箱体，从气体混合箱体向处理容器内供给混合气体的供给线，向气体混合箱体供给掺杂气体的掺杂气体供给系统，以及向气体混合箱体供给稀释气体的稀释气体供给系统。

主权项

1.一种半导体处理用的成膜装置，其特征在于：包括：收纳隔开间隔而积累的多个被处理基板的处理容器；在所述处理容器内支持所述被处理基板的支持部材；加热所述处理容器内的所述被处理基板的加热器；对所述处理容器内进行排气的排气系统；原料气体供给系统，向所述处理容器内供给用于在所述被处理基板上堆积薄膜的原料气体；混合气体供给系统，向所述处理容器内供给用于向所述薄膜中导入杂质的掺杂气体和用于稀释所述掺杂气体的稀释气体的混合气体；以及控制包含所述混合气体供给系统的所述装置的动作的控制部，其中，所述混合气体供给系统包括：气体混合箱体，用于混合所述掺杂气体和所述稀释气体以形成所述混合气体，被设置在所述处理容器外；从所述气体混合箱体向所述处理容器内供给所述混合气体的混合气体供给线；向所述气体混合箱体内供给所述掺杂气体的掺杂气体供给系统；以及向所述气体混合箱体内供给所述稀释气体的稀释气体供给系统。