[发明专利]具有减压通道的抛光垫座无效
| 申请号： | 200510077949.2 | 申请日： | 2005-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN1713356A | 公开（公告）日： | 2005-12-28 |
| 发明（设计）人： | T·T·克韦纳克;R·T·甘布尔;J·M·劳豪恩 | 申请（专利权）人： | CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304;B24B37/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郑修哲 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种包括窗口的化学机械抛光垫座，这个窗口在抛光垫座中成形，窗口的一侧设有一个空洞。这种抛光垫座还包括一个设置在抛光垫座中的并从空洞通向抛光垫座周边的空洞—减压通道。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 减压 通道 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光垫座，包括：一个在这种抛光垫座中成形的窗口，窗口的一侧面设有一个空洞；和一个设在这种抛光垫座中并从空洞通向抛光垫座周边的减压通道。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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