[发明专利]自旋晶体管、可编程逻辑电路和磁存储器无效

专利信息
申请号: 200510078194.8 申请日: 2005-06-16
公开(公告)号: CN1713400A 公开(公告)日: 2005-12-28
发明(设计)人: 齐藤好昭;杉山英行 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L29/82 分类号: H01L29/82;G11C11/16;H01L27/105;H01L43/08;H03K19/173
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种自旋晶体管,包括第一导电层,该第一导电层由在第一方向上磁化的铁磁材料制成,并且用作源极和漏极之一;第二导电层,该第二导电层由在第一方向和第二方向中的一个方向上磁化的铁磁材料制成,并且用作源极和漏极中的另一个,所述第二方向与所述第一方向反平行。该自旋晶体管还包括沟道区,该沟道区位于第一导电层和第二导电层之间,并且在第一导电层和第二导电层之间引入电子自旋;栅电极,该栅电极位于沟道区之上;以及隧道势垒膜,该隧道势垒膜位于沟道区和第一导电层及第二导电层中的二者至少一个之间。
搜索关键词: 自旋 晶体管 可编程 逻辑电路 磁存储器
【主权项】:
1、一种自旋晶体管,包括:第一导电层,该第一导电层由在第一方向上磁化的铁磁材料制成,并且用作源极和漏极之一;第二导电层,该第二导电层由在所述第一方向和第二方向中的一个方向上磁化的铁磁材料制成,并且用作源极和漏极中的另一个,所述第二方向与所述第一方向反平行;沟道区,该沟道区位于所述第一导电层和所述第二导电层之间,并且在所述第一导电层和所述第二导电层之间引入电子自旋;栅电极,该栅电极位于所述沟道区之上;以及隧道势垒膜,该隧道势垒膜位于所述沟道区和所述第一导电层及所述第二导电层二者中的至少一个之间。
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