[发明专利]用于生产光记录介质的压模原版盘的制造方法无效
| 申请号： | 200510078352.X | 申请日： | 2005-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN1716407A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 古木基裕 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G03F7/20;B29C59/02;B29L17/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在制造用于生产光记录介质的压模原版盘(1)时，与最终得到的光记录介质的凹坑相对应的凹形和凸形通过关于该凹坑的纵向中心对称的多个曝光脉冲的记录补偿曝光脉冲形成。因此，在该光记录介质中，由于凹坑长度的差异所产生的凹坑宽度的差异可以减小。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 记录 介质 原版 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于生产光记录介质的压模原版盘的制造方法，在该压模原版盘上形成有至少包括信息凹坑的凹状和凸状图案，所述方法包括以下步骤：抗蚀剂层形成步骤，在基板上形成电子束感光型的化学增强抗蚀剂层；电子束照射步骤，利用具有与所述凹状和凸状图案相对应的电子束光刻图案的电子束照射使所述抗蚀剂层曝光；显影处理步骤，通过使所述化学增强抗蚀剂层显影而将所述化学增强抗蚀剂层构图，其中在所述电子束照射步骤中与所述凹状和凸状图案的所述凹坑的至少一部分有关的电子束光刻通过基于关于所述凹坑的纵向中心对称的多个曝光脉冲的记录补偿曝光脉冲进行。
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