[发明专利]描绘装置及描绘方法

摘要

组装到曝光装置(描绘装置)的各曝光头(30)中的矩形二维像素阵列，相对于扫描方向构成给定的设定倾斜角度，相对感光材料(12)的曝光面设置。通过狭缝和光检测器的组合测定构成邻接的两个曝光头间的头间连接区域的曝光面上的光点的位置。根据所测定光点的位置，选择像素阵列上的使用像素，以实现将头间连接区域中曝光冗长和不足抑制至最小限度的，接近理想的N重曝光。从而，可以在用多个描绘头在描绘面上形成所期望的二维图案的描绘装置及描绘方法中，减轻由描绘头间相对位置和相对安装角度的误差，以及图案变形等影响引起的分辨性能和浓度的不均。

主权项

1、一种描绘装置，通过N重描绘对描绘面进行描绘，在描绘面上形成由图像数据表示的二维图案，其中N是1以上的自然数，其特征在于，包括：多个描绘头，各描绘头具有由配置成二维分布的多个可使用像素构成的像素阵列，并根据所述图像数据产生构成所述二维图案的描绘点群，按照所述可使用像素的像素列方向与该描绘头的扫描方向构成给定的设定倾斜角度的方式，相对于所述描绘面被分别安装；移动机构，其让各个所述描绘头相对于所述描绘面在所述扫描方向上相对移动；使用像素指定机构，其对每个所述描绘头，从所述多个可使用像素中的与所述描绘面上的头间连接区域中的描绘点所对应的连接区域可使用像素中，指定在该头间连接区域中实现所述N重描绘的连接区域使用像素；和设定变更机构，其对于各个所述描绘头变更设定，以便在所述连接区域可使用像素中只让所述连接区域使用像素实际动作。