[发明专利]磁场产生设备以及对其进行填垫的方法无效
申请号: | 200510078657.0 | 申请日: | 2005-06-21 |
公开(公告)号: | CN1712982A | 公开(公告)日: | 2005-12-28 |
发明(设计)人: | J·黄;H·卢 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | G01R33/383 | 分类号: | G01R33/383 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴立明;王忠忠 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了一种具有永久磁铁(110)的排列(105)的磁场产生设备(100),每个永久磁铁(PM)具有北端(125)和南端(130),并且每个永久磁铁在相同的南北方向上排列成行。将PM排列(105)配置成在北极端(125)具有一表面(120)、在南极端(130)具有一表面(120)、或者在两端均具有一表面(120)。铁磁材料层(135)牢固地安置在PM排列(120)的一个表面上,该层(135)具有等于或小于大约15毫米的厚度。 | ||
搜索关键词: | 磁场 产生 设备 以及 进行 方法 | ||
【主权项】:
1、 一种磁场产生设备(100),包括:一个排列(105),该排列包括多个永久磁铁(PM)(110),每个永久磁铁具有北端(125)和南端(130),并且每个永久磁铁在相同的南北方向上排列成行,将PM排列(105)配置成在北极端(125)具有一表面(120)、在南极端(130)具有一表面(120)、或者在这两端均具有一表面(120);以及一个层(135),该层包括牢固地安置在PM排列(105)的表面(120)之一上的铁磁材料,其中该层(135)具有等于或小于大约15毫米的厚度。
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