[发明专利]制造磷光层结构的方法无效
| 申请号： | 200510079261.8 | 申请日： | 2005-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN1710693A | 公开（公告）日： | 2005-12-21 |
| 发明（设计）人： | 许廷娜;朴相铉;郑太远;金钟玟 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/227 | 分类号： | H01J9/227 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供一种制造磷光层结构的方法，其中在阳极基底上的障壁间形成磷光层的工艺过程有所改进。该方法包括制备具有为障壁所分开的内部空间的基底；在障壁和内部空间上形成牺牲层，以平化基底的上表面；在牺牲层上形成磷光层；和除去牺牲层以使得磷光层可处于内部空间中。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 磷光 结构 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造磷光层结构的方法，包括：制备具有由障壁所分开的内部空间的基底；在障壁和内部空间上形成牺牲层，以平面化基底的上表面；在牺牲层上形成磷光层；和除去牺牲层以使得磷光层可处于内部空间中。
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