[发明专利]合成激光照射方法及装置无效
| 申请号： | 200510079440.1 | 申请日： | 2005-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN1712228A | 公开（公告）日： | 2005-12-28 |
| 发明（设计）人： | 清水敦子;水本学;植村隆之 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/44 | 分类号： | B41J2/44;H01S3/00;H01S5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 由目标输入单元(25)读取记录介质(90)的条形码(91)，得到合成激光(Le)的光输出目标值。该目标值小于预定基准值时，由光输出控制单元(30)选择多个半导体激光器(10a、10b…)中的两个半导体激光器(10a、10b)，以振荡阈值电流以上最大额定电流以下驱动所选择的半导体激光器(10a、10b)，停止驱动未被选择的半导体激光器(10c、10d…)。让由半导体激光器(10a、10b)发射出的通过合成单元(15)合成的合成激光(Le)的光输出成为上述目标值。将合成激光(Le)通过合成激光照射单元(20)照射到记录介质(90)。这样，可以在合成激光照射装置中扩大合成激光的光输出的调节范围。 | ||
| 搜索关键词： | 合成 激光 照射 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种合成激光照射方法，用于将由多个激光光源发射的各激光合成后的合成激光照射在记录介质上，其特征在于，当根据所述记录介质的感光度确定的所述合成激光的光输出的目标值小于预定的基准值时，选择所述多个激光光源中的一部分激光光源；以振荡阈值电流以上最大额定电流以下分别驱动所述被选择的每个激光光源，而停止驱动未被选择的激光光源，使所述合成激光的光输出成为所述目标值。
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