[发明专利]用于湿浸式光刻的方法和设备无效
| 申请号： | 200510079653.4 | 申请日： | 2005-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1776529A | 公开（公告）日： | 2006-05-24 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·J·霍姆斯;古川俊治;马克·C·黑基;丹尼尔·A·科利斯;戴维·V·霍勒克;查尔斯·W·科伯格 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 美国纽*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用于保持晶片的设备和一种用于湿浸式光刻的方法。该设备包括晶片夹具，该夹具具有中心圆形真空压盘、外部区域和在真空压盘中心上的圆形凹槽，真空压盘的顶表面凹进在外部区域的顶表面之下，凹槽的底表面凹进在真空压盘的顶表面之下；在凹槽的底表面中的一个或多个吸入口；和位于凹槽内的中空环形可膨胀和收缩的囊状物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 湿浸式 光刻 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于保持晶片的设备，包括：晶片夹具，具有中心圆形真空压盘、外部区域、和与所述真空压盘同心的圆形凹槽，所述真空压盘的顶表面凹进在所述外部区域的顶表面之下，并且所述凹槽的底表面凹进在所述真空压盘的所述顶表面之下；在所述凹槽的所述底表面中的一个或多个吸入口；和位于所述凹槽内的中空环形可膨胀和收缩的囊状物。
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