[发明专利]具有气体冲洗装置的光刻设备有效
| 申请号： | 200510081753.0 | 申请日： | 2005-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN1725110A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | M·贝克斯;R·J·胡特曼斯;N·坦卡特;N·R·科珀;N·F·科佩拉亚斯;J·－M·肖特斯曼;R·范德哈姆;J·A·M·M·范尤特雷格特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在排气口的下游端具有内缘。内缘限定了总排气口面积。排气口提供有具有有效面积的层合器，在使用时，大量的层流气体流出有效面积。层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，且至少与总排气口面积一样大。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 气体 冲洗 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，其包括：照明系统，用于提供辐射束；用于支撑构图工具的支撑结构，该构图工具用于在其剖面中给予辐射束图案；基板台，用于保持基板；投影系统，用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上；以及气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过，该气体冲洗装置包括：单个排气口，在排气口的下游端具有内缘，内缘限定了气体冲洗装置的总排气口面积，以及在排气口下游端的层合器，该层合器具有有效面积，在使用中，大量的层流气体流出该有效面积，该层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，其中有效面积至少与总排气口面积一样大。
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