[发明专利]厚膜电介质图案的制造方法以及图像显示装置的制造方法无效
| 申请号： | 200510081835.5 | 申请日： | 2005-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1725421A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | 铃木正明;渡边治 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/00 | 分类号： | H01J9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种厚膜电介质图案的形成方法，在基片上形成软化点相对较低的感光性介质胶层，在其上形成软化点相对较高的感光性介质胶层，并对它们进行曝光及显影由此形成前驱体图案，通过对此前驱体图案进行总括烧结，而形成侧面缘部为正锥形状(向外侧倾斜)、上面为平坦形状的厚膜电介质图案形状。 | ||
| 搜索关键词： | 电介质 图案 制造 方法 以及 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种配置在基片上的厚膜电介质图案的制造方法，其特征在于，具有：在基片上附与包含介质材料的第一感光性介质胶并进行干燥，形成第一前驱体层的工序；在上述第一前驱体层上附与包含平均软化点比第一感光性介质胶中所含的介质材料还高的介质材料的第二感光性介质胶并进行干燥，形成第二前驱体层的工序；将上述第一前驱体层与第二前驱体层的叠层体经由规定图案的掩模进行总括曝光，并进行显影而形成前驱体图案的工序；以及对上述前驱体图案进行总括烘烤而形成厚膜电介质图案的工序。
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