[发明专利]集成电路和该电路的操作参数的评价方法有效

专利信息
申请号: 200510082035.5 申请日: 2005-07-05
公开(公告)号: CN1738044A 公开(公告)日: 2006-02-22
发明(设计)人: 马克·C.·哈克;马克·E.·马斯特斯;利亚·M.·P.·帕斯特尔;戴维·P.·瓦尔莱特 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;G01R31/26
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种集成电路的形成方法和结构,它包括第一晶体管和靠近第一晶体管的嵌入式碳纳米管场效应晶体管(CNTFET),其中CNT FET的形成尺寸小于第一晶体管。该CNT FET适于检测来自第一晶体管的信号,其中该信号包括温度、电压、电流、电场和磁场信号的任一种。而且,该CNT FET适于检测集成电路中的应力和应变,其中该应力和应变包括机械应力和应变与热应力和应变中的任一种。另外,该CNT FET适于检测集成电路中的有缺陷电路。
搜索关键词: 集成电路 电路 操作 参数 评价 方法
【主权项】:
1、一种集成电路,包括:被监控的器件,和靠近所述被监控器件的碳纳米管场效应晶体管(CNT FET)。
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