[发明专利]微型透镜用带有凹部的基板的制造方法以及透过型屏幕无效
| 申请号： | 200510082237.X | 申请日： | 2005-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN1735171A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 吉村和人;石井诚 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H04N5/74 | 分类号： | H04N5/74;G03F7/42 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在进行湿式蚀刻时能够防止蚀刻掩模被除去或破坏而使其充分进行各项同性蚀刻的微型透镜用带有凹部基板的制造方法，其中具备以下工序：在基板(10)的表面上形成所述蚀刻掩模(12、14)的工序；在形成各凹部的区域上照射激光，在该区域上形成贯穿孔(16)的同时，通过热使整个所述蚀刻掩膜(12、14)变质的工序；在基于贯穿孔(16)而露出的所述基板(10)的表面上，通过使蚀刻液接触而在所述基板表面上形成凹部(20)的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 微型 透镜 带有 制造 方法 以及 透过 屏幕 | ||
【主权项】：
1.一种微型透镜用带有凹部基板的制造方法，在表面设置有多个凹部，通过在该凹部内供给树脂而形成微型透镜，其特征在于，具备以下工序：形成所述蚀刻掩模的工序；在所述蚀刻掩模的形成所述各凹部的区域上照射激光，在该区域上形成贯穿孔的同时，通过热使整个所述蚀刻掩膜变质的工序；在基于所述贯穿孔而露出的所述基板的表面上，通过使蚀刻液接触而在所述基板表面上形成凹部的工序。
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