[发明专利]半导体芯片及其制造方法以及半导体器件有效

专利信息
申请号: 200510082341.9 申请日: 2005-06-30
公开(公告)号: CN1716620A 公开(公告)日: 2006-01-04
发明(设计)人: 川野连也;田代勉;栗田洋一郎 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;H01L23/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 半导体芯片(1)具有半导体衬底(10)。在本实施例中,通过包括支撑衬底(12)、绝缘层(14)以及硅层(16)构成作为SOI衬底的半导体衬底(10),绝缘层(14)以分层结构形成在支撑衬底(12)上,硅层(16)以分层结构形成在绝缘层(14)上。半导体衬底(10)具有设置在硅层(16)中的电路形成区(A1)。绝缘区(18)设置在半导体衬底(10)上。绝缘区(18)设置为围绕电路形成区(A1)的整个侧表面。
搜索关键词: 半导体 芯片 及其 制造 方法 以及 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体芯片,包括:具有电路形成区的半导体衬底,其中所述半导体衬底具有设置为围绕所述电路形成区的整个侧表面的绝缘区。
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