[发明专利]涂布膜的加热装置和光刻胶的处理装置无效
| 申请号： | 200510082468.0 | 申请日： | 2001-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1702561A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | 川野健二;伊藤信一;塩原英志;河村大辅;早崎圭 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 为了提高涂布膜或光刻胶的均匀性，本发明提供了一种涂布膜加热装置和光刻胶的处理装置。本发明的涂布膜的加热装置具有内部空间的腔室；上述腔室内具有支撑被处理衬底的载置面并用于加热上述被处理衬底的加热板，所述被处理衬底具有涂布膜；以及对着上述载置面配置于上述腔室内的、用于吸附由上述被处理衬底产生的蒸发物的吸附板。 | ||
| 搜索关键词： | 涂布膜 加热 装置 光刻 处理 | ||
【主权项】：
1、一种涂布膜的加热装置，具备：具有内部空间的腔室；上述腔室内具有支撑被处理衬底的载置面并用于加热上述被处理衬底的加热板，所述被处理衬底具有涂布膜；以及对着上述载置面配置于上述腔室内的、用于吸附由上述被处理衬底产生的蒸发物的吸附板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝，未经株式会社东芝许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510082468.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
