[发明专利]超导腔的干式处理方法无效
| 申请号： | 200510082813.0 | 申请日： | 2005-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1891864A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 郝建奎;赵夔;黄森林;焦飞 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C23F4/04 | 分类号： | C23F4/04 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人： | 陈美章 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种超导腔的干式处理方法，其特征在于，将超导腔作为阴极、基片作为阳极，在真空条件下电离惰性气体，利用电离后产生的等离子体对超导腔表面进行溅射处理，其中，所述的基片是吸附气体能力强的金属或合金。与化学抛光、电抛光相比，它是一种洁净处理超导腔的方法，没有酸的危险和对环境的污染，而且处理后不会残留液体在腔表面上，处理装置的结构简单，容易控制。另外，它为超导腔提供了室温下的MP锻炼，使腔的MP得到很好的遏制。 | ||
| 搜索关键词： | 超导 处理 方法 | ||
【主权项】：
1、一种超导腔的干式处理方法，其特征在于，将超导腔作为阴极、基片作为阳极，在真空条件下电离惰性气体，利用电离后产生的等离子体对超导腔表面进行溅射处理，其中，所述的基片是吸附气体能力强的金属或合金。
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