[发明专利]曝光装置以及曝光方法无效
申请号: | 200510083530.8 | 申请日: | 2005-07-08 |
公开(公告)号: | CN1719339A | 公开(公告)日: | 2006-01-11 |
发明(设计)人: | 北川智也;大野薰 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种即使在感光材料中设有孔的情况下,也能够准确地让焦点与感光材料相一致而进行曝光的曝光装置以及曝光方法。该曝光装置具有测量感光材料的被曝光面的位置高度的距离测定机构、判断感光材料的被曝光面的孔位置的孔位置确定机构、确定感光材料上的孔位置的孔坐标测定机构、位移数据生成机构以及进行让曝光机构的光束的焦点位置与上述被曝光面相一致的对焦控制的对焦机构,在上述距离测量机构检测出给定大小以上的位移量的情况下,除去根据上述孔位置确定机构的判断结果而被判断为孔的位置,在上述位移数据生成机构中,生成用于上述对焦机构的对焦控制的位移数据的位移数据。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置,通过一边使感光材料相对移动、一边发射根据图像数据进行了调制的光束的曝光机构进行曝光,其特征在于,具有:判断上述感光材料的被曝光面的孔位置的孔位置确定机构;以及进行让上述曝光机构的光束的焦点位置与上述被曝光面相一致的对焦控制的对焦机构;以及除去根据上述孔位置确定机构的判断结果而被判断为孔的位置,生成用于上述对焦机构的对焦控制的位移数据的位移数据生成机构。
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