[发明专利]光学用被覆膜有效
| 申请号： | 200510083814.7 | 申请日： | 2001-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN1721882A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 熊野胜文;小田尚伸;伊藤明 | 申请（专利权）人： | 东洋纺绩株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B27/28 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学用被覆膜，以厚度50μm以上的双轴定向聚酯膜作为基材，在上述基材的至少一个面上具有粘合性改性树脂层，该粘合性改性树脂层的树脂成分以共聚聚酯树脂、聚氨酯系树脂、丙烯酸系树脂中的至少一种为主构成，其特征在于，上述被覆膜的基材中实质上不含有粒子，只在粘合性改性树脂层中含有粒子，存在于上述被覆膜的表面上的深度1μm以上且长度3mm以上的全疵点在100个/m2以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 被覆 | ||
【主权项】：
1.一种光学用被覆膜，以厚度50μm以上的双轴定向聚酯膜作为基材，在上述基材的至少一个面上具有粘合性改性树脂层，该粘合性改性树脂层的树脂成份以共聚聚酯树脂、聚氨酯系树脂、丙烯酸系树脂中的至少一种为主构成，其特征在于，上述被覆膜的基材中实质上不含有粒子，只在粘合性改性树脂层中含有粒子，存在于上述被覆膜的表面上的深度1μm以上且长度3mm以上的全疵点在100个/m2以下。
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