[发明专利]高分子聚乙交酯-丙交酯放射性籽源薄层片及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200510083958.2 申请日: 2005-07-15
公开(公告)号: CN1709518A 公开(公告)日: 2005-12-21
发明(设计)人: 陈红红;郯志清;程文英;王文祖;罗伟华;杨庆 申请(专利权)人: 东华大学;复旦大学
主分类号: A61K51/02 分类号: A61K51/02;A61K51/12;D01F8/14;//A61K103∶10
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 代理人: 张德胜
地址: 200051*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种高分子聚乙交酯-丙交酯放射性籽源薄层片及其制备方法,用高分子聚乙交酯-丙交酯制成的纱线织成纱罗组织的织物,在织物上放置放射性籽源,在织物的二面有厚度为0.25-0.35毫米的壳聚糖涂层。本发明采用高分子医用材料壳聚糖进行涂层和后加工,使PGLA降解在可控状态下进行,并采用这种具有独特生物降解性能的新型涂层PGLA作为载体和薄层支架,用于治疗瘤床残基,以固定剂量分布的均匀性,避免瘤床残基中出现剂量“冷点”而导致治疗失败,同时产品实用、方便,推广临床应用。
搜索关键词: 高分子 聚乙交酯 丙交酯 放射性 薄层 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种高分子聚乙交酯-丙交酯放射性籽源薄层片,其特征在于用高分子聚乙交酯-丙交酯制成的纱线织成纱罗组织的织物,在织物上放置放射性籽源,在织物的二面有厚度为0.25-0.35毫米的壳聚糖涂层。
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