[发明专利]具有保护耐磨层的模内转印薄膜无效
申请号: | 200510084275.9 | 申请日: | 2005-07-15 |
公开(公告)号: | CN1895906A | 公开(公告)日: | 2007-01-17 |
发明(设计)人: | 许西岳 | 申请(专利权)人: | 优立企业有限公司 |
主分类号: | B41M5/00 | 分类号: | B41M5/00;B32B27/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄健 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种具有保护耐磨层的模内转印薄膜,包括一透明或有色基底(如:PET、PMMA、PC或PS等或其它类高分子聚合体)以及一设于透明或有色基底上的保护耐磨层,所述透明或有色基底具有剥离特性,而保护耐磨层是使用热固化树脂组合物及或热塑化树脂组合物的高分子化学反应物料做成(如:PU、UP及PS等及其它各类高分子单体),所述组合物含有一种作为有效成分的多官能架桥剂及促进剂提供网状或线性键结,其平均分子量为300~5,000的高分子化合物,而聚合后的平均分子量则为100,000~1,000,000或更大的高分子化学聚合物。 | ||
搜索关键词: | 具有 保护 耐磨 模内转印 薄膜 | ||
【主权项】:
1、一种具有保护耐磨层的模内转印薄膜,包括一透明或有色基底及一设于透明或有色基底上的保护耐磨层,其中,所述透明或有色基底具有可剥离特性;所述保护耐磨层,其是使用热固化树脂组合物及/或热塑化树脂组合物的高分子化学反应物料做成,且该组合物含有一种作为有效成分的多官能架桥剂及促进剂以提供网状或线性键结反应,于聚合后形成一高分子化学聚合物。
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