[发明专利]类金刚石碳薄膜及其质变的方法,和偏振器无效
申请号: | 200510084533.3 | 申请日: | 2002-12-20 |
公开(公告)号: | CN1734339A | 公开(公告)日: | 2006-02-15 |
发明(设计)人: | 大久保総一郎;松浦尚 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | G02F1/19 | 分类号: | G02F1/19;G02B6/27;H04B10/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李德山 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种使类金刚石碳薄膜发生质变的方法,包括如下步骤:利用粒子束或能量束照射类金刚石碳薄膜的至少一个区域,以提高该区域的折射率,从而在所述类金刚石碳薄膜内形成分布式折射率结构。本发明的类金刚石碳薄膜的特征在于其折射率分布呈现为一种相对该薄膜的厚度倾斜地取向的图案。 | ||
搜索关键词: | 金刚石 薄膜 及其 质变 方法 偏振 | ||
【主权项】:
1.一种使类金刚石碳薄膜发生质变的方法,包括如下步骤:利用粒子束或能量束照射类金刚石碳薄膜的至少一个区域,以提高该区域的折射率,从而在所述类金刚石碳薄膜内形成分布式折射率结构。
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