[发明专利]气体中杂质的定量方法及装置无效

专利信息
申请号: 200510084614.3 申请日: 2005-07-15
公开(公告)号: CN1721838A 公开(公告)日: 2006-01-18
发明(设计)人: 冈宏一;新田哲士 申请(专利权)人: 大塚电子株式会社
主分类号: G01N21/35 分类号: G01N21/35;G01N21/01
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及气体中杂质的定量方法及装置。从气体中除去杂质、导入容器15、透过容器15光的强度作为参照实施测定。将含已知浓度杂质的气体导入同一容器15,保持同温同压,测定透过容器15光的强度,由上述两次测定所得的光强度之比求杂质的吸光度。此杂质吸光度作为杂质浓度函数记忆在存储器20a中。将含未知浓度杂质的气体导入容器15,保持同温同压,测定透过容器15的光强度,求经此测定所得杂质对上述参照的吸光度,此吸光度应用于上述函数、求杂质浓度。
搜索关键词: 气体 杂质 定量 方法 装置
【主权项】:
1.一种气体中杂质定量方法,其特征在于是一种定量混入气体中杂质浓度的定量方法,包括下列步骤:(a)从上述气体中除去杂质,导入第1容器,测定透过该容器光的强度;(b)把含已知浓度杂质的气体导入第1容器或光路同长的第2容器,保持与上述测定(a)同温同压,测定透过容器光的强度;(c)经上述(b)测得的光强度除以经上述(a)测得的光强度,求杂质的吸光度,此杂质的吸光度作为杂质浓度函数记忆存储;(d)把含未知浓度杂质的气体导入第1、第2容器或光路同长的第3容器,保持与上述测定(a)及上述测定(b)同温同压,测定透过上述第1、第2或第3容器光的强度;(e)经上述(d)测得的光强度除以经上述(a)测得的光强度,求杂质的吸光度,用此吸光度应用于上述函数,求杂质浓度。
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