[发明专利]真空吸引系统有效

专利信息
申请号: 200510084778.6 申请日: 2005-07-21
公开(公告)号: CN1725948A 公开(公告)日: 2006-01-25
发明(设计)人: 小岛智幸;吉泽诚二;水野显治;小平晃久 申请(专利权)人: 东京威尔斯股份有限公司
主分类号: H05K13/02 分类号: H05K13/02;B65G47/91
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 温大鹏;杨松龄
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种真空吸引系统,其可稳定地向工件输送工作台的工件收纳孔内装填、排出工件。真空吸引系统包括:具有工件收纳孔(5)的工件输送工作台(2);具有真空吸引槽(7)的工作台基座(3),该真空吸引槽与工件输送工作台(2)的工件收纳孔(5)连通。这些工件收纳孔(5)和真空吸引槽(7)通过真空配管(9)与真空发生源(17)连通。在真空配管(9)上连接有负压传感器(10),根据来自该负压传感器(10)的信号,向真空配管(9)内输送来自压缩空气源(20)的压缩空气,或将真空配管(9)内向大气开放,从而调整真空配管(9)内的真空度。
搜索关键词: 真空 吸引 系统
【主权项】:
1.一种真空吸引系统,备有:真空泄漏发生部;具有真空发生源、和将该真空发生源与真空泄漏发生部连接起来的真空配管的真空吸引机构;连接在该真空吸引机构的真空配管上、对真空配管内的真空度进行调整的真空度调整机构;真空度调整机构具有:通过第1调整部而与真空配管连接的压缩空气发生源;通过第2调整部而与真空配管连接的大气开放部;对这些第1调整部和第2调整部进行控制的控制部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京威尔斯股份有限公司,未经东京威尔斯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510084778.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top