[发明专利]真空吸引系统有效
申请号: | 200510084778.6 | 申请日: | 2005-07-21 |
公开(公告)号: | CN1725948A | 公开(公告)日: | 2006-01-25 |
发明(设计)人: | 小岛智幸;吉泽诚二;水野显治;小平晃久 | 申请(专利权)人: | 东京威尔斯股份有限公司 |
主分类号: | H05K13/02 | 分类号: | H05K13/02;B65G47/91 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温大鹏;杨松龄 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种真空吸引系统,其可稳定地向工件输送工作台的工件收纳孔内装填、排出工件。真空吸引系统包括:具有工件收纳孔(5)的工件输送工作台(2);具有真空吸引槽(7)的工作台基座(3),该真空吸引槽与工件输送工作台(2)的工件收纳孔(5)连通。这些工件收纳孔(5)和真空吸引槽(7)通过真空配管(9)与真空发生源(17)连通。在真空配管(9)上连接有负压传感器(10),根据来自该负压传感器(10)的信号,向真空配管(9)内输送来自压缩空气源(20)的压缩空气,或将真空配管(9)内向大气开放,从而调整真空配管(9)内的真空度。 | ||
搜索关键词: | 真空 吸引 系统 | ||
【主权项】:
1.一种真空吸引系统,备有:真空泄漏发生部;具有真空发生源、和将该真空发生源与真空泄漏发生部连接起来的真空配管的真空吸引机构;连接在该真空吸引机构的真空配管上、对真空配管内的真空度进行调整的真空度调整机构;真空度调整机构具有:通过第1调整部而与真空配管连接的压缩空气发生源;通过第2调整部而与真空配管连接的大气开放部;对这些第1调整部和第2调整部进行控制的控制部。
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