[发明专利]辐射产生器件、光刻装置、器件制造方法及由此制造的器件有效
| 申请号： | 200510084819.1 | 申请日： | 2005-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN1721999A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | K·N·科舍勒夫;V·V·伊瓦诺夫;E·D·科罗布;G·G·祖卡维斯维里;R·R·加亚佐夫;V·M·克里特森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于基于放电产生辐射源的装置，包括阴极和阳极。该阴极和阳极材料以流态提供。当装置在使用中时，材料形成等离子体箍缩。任选的是，可以使用喷嘴来提供该材料。阴极和/或阳极可形成平坦表面。可以延长材料的轨道。可以使用激光更容易地引起放电。可将激光引导到阳极或阴极或位于阳极和阴极之间的单独材料上。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 产生 器件 光刻 装置 制造 方法 由此 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生辐射的器件，包括：第一喷嘴，用于提供第一材料的第一喷射流，其中第一材料的第一喷射流用作第一电极；第二电极；和点火源，用于触发第一电极和第二电极之间的放电。
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