[发明专利]纳米贴纸的制造方法无效
| 申请号： | 200510084934.9 | 申请日： | 2005-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN1904731A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | 赵治宇;谢文俊 | 申请（专利权）人： | 李炳寰 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是一种纳米贴纸的制造方法，主要包含有下列步骤：a)在真空环境下，备置一基板以及一转印戳，该转印戳具有一转印面，于该转印面表面设有纳米凸纹，该纳米凸纹是由多数凸部及多数凹部组成，该基板具有一蚀刻层；b)进行一沾取程序，使该纳米凸纹的凸部或凹部其中之一沾取一光阻材料；c)进行一转印程序，使该转印戳的该纳米凸纹与该蚀刻层接触，以将该纳米凸纹上的光阻材料转印于该蚀刻层表面；d)进行一蚀刻程序，对该蚀刻层进行蚀刻，使该蚀刻层上未覆盖光阻材料的部位被蚀刻预定深度；通过由前述步骤，可使纳米贴纸的生产能应用于产业上的量产及低成本的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 贴纸 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米贴纸的制造方法，其特征在于，包含有下列步骤：a)在真空环境下，备置一基板以及一转印戳，该转印戳具有一转印面，于该转印面表面设有纳米凸纹，该纳米凸纹是由多数凸部及多数凹部组成，该基板具有一蚀刻层；b)进行一沾取程序，使该纳米凸纹的凸部或凹部其中之一沾取光阻材料；c)进行一转印程序，使该转印戳的该纳米凸纹与该蚀刻层接触，通过以将该纳米凸纹上的光阻材料转印于该蚀刻层表面；d)进行一蚀刻程序，对该蚀刻层进行蚀刻，使该蚀刻层上未覆盖光阻材料的部位被蚀刻预定深度。
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