[发明专利]电磁波吸收薄膜结构及其制造方法有效
申请号: | 200510085525.0 | 申请日: | 2005-07-26 |
公开(公告)号: | CN1905789A | 公开(公告)日: | 2007-01-31 |
发明(设计)人: | 严立贤 | 申请(专利权)人: | 严立贤 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;G12B17/02;C09K3/00 |
代理公司: | 北京挺立专利事务所 | 代理人: | 叶树明 |
地址: | 台湾省台北县新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种电磁波吸收薄膜结构及其制造方法,其包含有一复合层与一位于复合层上的反射层,且复合层的厚度为所欲吸收的电磁波的波长1/4整数倍,以利用相位相消干涉来将所射入的电磁波抵销,复合层内更添加有具双层、单层结构的吸收、反射粒子,以形成更多的吸收、反射与干涉来将所射入的电磁波抵销,进而避免电磁波可能对人体所产生的各种伤害。 | ||
搜索关键词: | 电磁波 吸收 薄膜 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电磁波吸收薄膜结构,其包含有:一复合层,其系内混合有数个粒子,且该复合层的厚度为所欲吸收的电磁波波长的1/4整数倍;以及一反射层,其系位于该复合层的一侧面上,且该反射层的折射率大于该复合层的折射率。
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