[发明专利]基于薄膜衰减光而分析相关试验的仪器无效

专利信息
申请号: 200510085540.5 申请日: 2000-08-03
公开(公告)号: CN1734230A 公开(公告)日: 2006-02-15
发明(设计)人: S·杨 申请(专利权)人: 热生物之星公司;旭化成株式会社
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01N21/21
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 赵蓉民;路小龙
地址: 美国科*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 改进的偏振片椭圆测量仪能够提高信号质量和信噪比性能。这种改进是基于相对于一个固定的偏振片旋转另一个偏振片,以便产生与分析薄膜相关的AC模式信号。AC模式信号可以与背景信号比较,使用样本信号与背景信号的比值提供薄膜厚度的更精确测量。可以把不知厚度的归一化AC信号与对于确切厚度测量具有类似光学性能的薄膜产生的标准曲线比较,或者可以直接用于表示相对厚度值。还描述了本发明改进偏振片椭圆测量仪的其他变形,其中去掉一个或两个固定偏振片,以便通过减少光学元件的数量改善信号强度。设计这些变形应用于特别的薄膜和基质条件。
搜索关键词: 基于 薄膜 衰减 分析 相关 试验 仪器
【主权项】:
1.一种用于确定由基质(108)承载的受测样本的薄膜厚度的装置(600),该装置包括:用于产生照射所述样本的非偏振电磁辐射的光源(302);用于探测从所述样本反射的电磁辐射的探测器(112),其中由所述探测器(112)产生的信号对应于所述反射电磁辐射的强度;所述光源(302)和检测器(112)各具有一个相对于样本的入射平面的垂直法线而确定的角度,所述角度可以从30度至大约0度,但事实上不等于0度;位于所述光源(302)、所述样本和所述探测器(112)之间的光路;和信号处理器,用于把所述信号与所述样本上的薄膜厚度相关联,所述光路既不包括位于所述光源与所述样本之间的偏振片,也不包括位于所述样本与所述探测器之间的偏振片。
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