[发明专利]不同折射率膜层的制备方法无效
| 申请号： | 200510086464.X | 申请日： | 2005-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN1936069A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 谭满清;周代兵 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/54;C23C14/08;C23C14/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 段成云 |
| 地址： | 100083北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于光学薄膜技术领域，本发明涉及一种实现不同折射率膜层的制备方法，制备过程中，采用高真空下双枪电子束同时蒸镀高、低折射率膜料实现，折射率在高、低两种材料之间连续可变，通过控制两种膜料的淀积速率比精确调节淀积膜层的折射率值，该方法可以制备许多自然界不存在的折射率膜层，制备方法简单可行，而且不受膜料的熔点等性能的限制。 | ||
| 搜索关键词： | 不同 折射率 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种实现不同折射率膜层的制备方法，其特征在于，使用双枪电子束同时蒸发高低折射率膜料实现，蒸镀过程中严格控制蒸发高低膜料的蒸发速率比，改变蒸镀速率比可调节膜层的折射率值，包括如下步骤：步骤1：将高、低两种折射率膜料分别装在两个坩埚中，然后将双枪电子束镀膜机抽到高真空，即真空度值小于等于1×10-4帕斯卡；步骤2：将衬底加热到200-300℃，并控温；步骤3：在计算机控制程序中设定两种膜料的淀积速率，开启电子枪总开关，然后启动淀积程序；步骤4：在计算机控制下，通过两个石英晶体振动器分别精确控制两种膜料的淀积速率，从而实现需要的折射率膜层。
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