[发明专利]采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法和系统无效
申请号: | 200510086828.4 | 申请日: | 2005-11-10 |
公开(公告)号: | CN1752848A | 公开(公告)日: | 2006-03-29 |
发明(设计)人: | 张锦;冯伯儒 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B5/18;G02B27/60 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 刘秀娟;成金玉 |
地址: | 610209*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法,其特征在于:采用环形光栅和选通快门装置为三次曝光成像干涉光刻提供垂直于掩模平面的照明、X方向偏置照明和Y方向偏置照明,实现成像干涉光刻的三次曝光。本发明通过选通快门控制,无任何影响系统稳定性的部件,曝光之间无须调整光路和图像对准,用选通快门的开启时间控制三次曝光的曝光剂量,优化曝光剂量比,提高图形对比度和分辨率,改善图形质量,方便、灵活实现三次曝光,有利于提高曝光效率和促进成像干涉光刻实用化。 | ||
搜索关键词: | 采用 环形 光栅 快门 成像 干涉 光刻 方法 系统 | ||
【主权项】:
1、采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法,其特征在于包括下列步骤:(1)将选通快门和其后的环形光栅置于准直系统和掩模之间,其中选通快门由处于中间、右侧或左侧、上部或下部的3个电动快门组成;(2)采用中间的选通快门与其对应的环形光栅基板中部的透光孔配合,实现垂直照明掩模曝光;(3)采用右侧或左侧的选通快门及其后对应的环形光栅部分,实现X方向偏置照明曝光;(4)采用上部或下部的选通快门及其后对应的环形光栅部分,实现Y方向偏置照明曝光,从而实现成像干涉光刻所需的三次曝光。
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