[发明专利]一种适用于锂离子电池的纳米电解铜箔及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200510087044.3 申请日: 2005-07-25
公开(公告)号: CN1710737A 公开(公告)日: 2005-12-21
发明(设计)人: 张世超 申请(专利权)人: 北京中科天华科技发展有限公司
主分类号: H01M4/64 分类号: H01M4/64;H01M4/66;C25C1/12;C25D7/06
代理公司: 北京永创新实专利事务所 代理人: 周长琪
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种适用于锂离子电池的纳米电解铜箔及其制备方法,所述电解铜箔由平均晶粒≤150nm,X射线衍射峰无任何择优取向的细小纳米等轴晶组成。采用直流电沉积工艺,通过电解液组成与电沉积工艺参数的合理配合,在添加混合有机添加剂的情况下,制备具有细小纳米等轴晶结构的纳米电解铜箔。电解液中铜离子浓度为30~120g/l,硫酸浓度为50~350g/l,在添加有混合有机添加剂的情况下,在25℃~65℃的条件下进行电解沉积,电解液流速为0.5~5.0m/s,电流密度为0.5~5.0A/cm2。所述混合有机添加剂为1~15mg/l硫脲、1~15mg/l骨胶、0.1~5.0mg/l氯离子和0.005~0.05mg/l刚果红组成。制备得到的所述电解铜箔厚度≤18μm,抗拉强度≥450MPa,延伸率≥5%,其毛面粗糙度Rz≤0.40μm。
搜索关键词: 一种 适用于 锂离子电池 纳米 电解 铜箔 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种适用于锂离子电池的纳米电解铜箔,其特征在于:所述电解铜箔由平均晶粒≤150nm,X射线衍射峰无任何择优取向的细小纳米等轴晶组成。
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