[发明专利]可避免锁死现象的静电放电装置无效
申请号: | 200510087179.X | 申请日: | 2005-07-27 |
公开(公告)号: | CN1905188A | 公开(公告)日: | 2007-01-31 |
发明(设计)人: | 黄志丰;杨大勇;林振宇;简铎欣 | 申请(专利权)人: | 崇贸科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L23/60 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是有关于一种可避免锁死现象的静电放电装置,当一电源电压未供应至该静电放电装置时,其具有等效硅控整流器(SCR)结构;当该电源电压供应至该静电放电装置时,其具有等效PN二极管结构,因此可以避免静电放电装置的锁死现象。 | ||
搜索关键词: | 避免 现象 静电 放电 装置 | ||
【主权项】:
1.一种可避免锁死的静电放电装置,其特征在于其包括:一P型基板;一N型井,形成于该P型基板中;一第一N+型掺杂区,形成于该N型井中;一第一P+型掺杂区,形成于该N型井中;一第二N+型掺杂区,形成于该第一P+型掺杂区与一第一场氧化层之间;一第三N+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第三N+型掺杂区与该N型井不相接触;一第二P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第二P+型掺杂区与该N型井不相接触;一第一电极,其经由一第一电性导体连接该第二P+型掺杂区与该第三N+型掺杂区;一第二电极,其经由一第二电性导体连接该第一N+型掺杂区与该第一P+型掺杂区;以及一第三P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第三P+型掺杂区是以该第一场氧化层与该第二N+型掺杂区隔开,其中当该静电放电装置于未供应电源状态下,该第三P+型掺杂区是为浮接状态,当该静电放电装置于电源供应状态下,该第三P+型掺杂区是连接至一最低电位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于崇贸科技股份有限公司,未经崇贸科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510087179.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种提取硫酸软骨素的方法
- 下一篇:电池盖卡锁结构
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的