[发明专利]可避免锁死现象的静电放电装置无效

专利信息
申请号: 200510087179.X 申请日: 2005-07-27
公开(公告)号: CN1905188A 公开(公告)日: 2007-01-31
发明(设计)人: 黄志丰;杨大勇;林振宇;简铎欣 申请(专利权)人: 崇贸科技股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L23/60
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关于一种可避免锁死现象的静电放电装置,当一电源电压未供应至该静电放电装置时,其具有等效硅控整流器(SCR)结构;当该电源电压供应至该静电放电装置时,其具有等效PN二极管结构,因此可以避免静电放电装置的锁死现象。
搜索关键词: 避免 现象 静电 放电 装置
【主权项】:
1.一种可避免锁死的静电放电装置,其特征在于其包括:一P型基板;一N型井,形成于该P型基板中;一第一N+型掺杂区,形成于该N型井中;一第一P+型掺杂区,形成于该N型井中;一第二N+型掺杂区,形成于该第一P+型掺杂区与一第一场氧化层之间;一第三N+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第三N+型掺杂区与该N型井不相接触;一第二P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第二P+型掺杂区与该N型井不相接触;一第一电极,其经由一第一电性导体连接该第二P+型掺杂区与该第三N+型掺杂区;一第二电极,其经由一第二电性导体连接该第一N+型掺杂区与该第一P+型掺杂区;以及一第三P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第三P+型掺杂区是以该第一场氧化层与该第二N+型掺杂区隔开,其中当该静电放电装置于未供应电源状态下,该第三P+型掺杂区是为浮接状态,当该静电放电装置于电源供应状态下,该第三P+型掺杂区是连接至一最低电位。
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