[发明专利]用于离子断裂截止的装置和方法无效
| 申请号： | 200510087400.1 | 申请日： | 2005-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN1828819A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 亚历克斯·莫迪凯 | 申请（专利权）人： | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/26 | 分类号： | H01J49/26;G01N30/72 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王怡 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于隔离、断裂和扫描离子的质量分析器。该质量分析器包括离子阱，该离子阱具有第一电极、与第一电极相邻的第二电极、插入在第一电极和第二电极之间的第三电极、电连接到第一电极和第二电极的第一RF源、以及电连接到第三电极的第二RF电压源。第二RF电压源提供了第二电场，用于使离子断裂并扩大器件的断裂截止的潜在应用，这允许分析肽和其他复杂的分子。该质量分析器可以独立使用或者与质谱分析系统组合使用。本发明也公开了离子断裂和截止的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 断裂 截止 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种质谱分析系统，包括：(a)用于产生离子的电离源；(b)在所述电离源下游的质量分析器，用于隔离、断裂和扫描由所述电离源产生的离子，所述质量分析器包括离子阱，该离子阱具有第一电极、与所述第一电极相邻的第二电极、插入在所述第一电极和所述第二电极之间的第三电极、电连接到所述第一电极和所述第二电极的第一RF源、以及电连接到所述第三电极的第二RF源；和(c)在所述质量分析器下游的探测器，用于探测来自所述质量分析器的离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安捷伦科技有限公司，未经安捷伦科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510087400.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：自动配置分布式网络分析仪的方法
- 下一篇：薄膜晶体管阵列面板
