[发明专利]单晶制造方法及其装置无效
| 申请号： | 200510087604.5 | 申请日： | 2005-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN1900385A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 進藤勇;纐頡明伯 | 申请（专利权）人： | 株式会社水晶系统 |
| 主分类号： | C30B25/10 | 分类号： | C30B25/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可以在着色基板两面制造有一定厚度的高品质单晶膜的制造装置和制造方法。本发明的特征是，以至少一对红外线发生源和反射镜构成的红外线照射装置，对通过基板支架固定在反应器内部的着色基板上的两单晶生长面基本均匀地加热，从而制造单晶。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.单晶制造方法，其特征为利用化学蒸镀法在基板上制造单晶的方法，基板为具红外线吸收能力的着色基板，从基板两侧照射用反射镜集聚的红外线加热基板，使原料气体在上述基板表面上反应，让单晶在基板两面生长。
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