[发明专利]在基片中置入贯穿断面的方法无效

专利信息
申请号: 200510088415.X 申请日: 2005-07-28
公开(公告)号: CN1727181A 公开(公告)日: 2006-02-01
发明(设计)人: 斯戴芬·文凯 申请(专利权)人: LPKF激光和电子股份公司
主分类号: B41C1/05 分类号: B41C1/05;B41C1/14;B41N1/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李勇
地址: 德国加*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种借助于激光在预定的位置处将贯穿断面(1)置入到实现为印花筛网的基片(2)中的方法。为此,所述基片(2)借助于一个实现为拉幅机的固定装置(3)来定位。其中通过首先确定中央参照点(4)的坐标,避免了由于在后续加工步骤中改变基片(2)的压力状态所引起的贯穿断面(1)的位置偏移。接着确定该贯穿断面(1)的预定位置与所述参照点(4)之间的相应距离(a),由此形成一个优先次序(5)。然后该优先次序(5)形成了加工程序(6)的基础,通过所述加工程序来控制激光头的运动轨迹,并将贯穿断面(1)置入到基片(2)中。
搜索关键词: 片中 置入 贯穿 断面 方法
【主权项】:
1.用于在预定的位置处将贯穿断面置入到基片中的方法,尤其是用于借助于激光来制造模板或掩模,其中在加工期间,所述基片借助于一个特别实现为拉幅机的固定装置来定位,其特征在于,首先确定一个参照点在一个中央区域中的坐标,所述参照点距所述固定装置有一段距离,然后确定贯穿断面的相应的预定位置与所述参照点之间的距离,最后由此确定贯穿断面距参照点的距离的优先次序,并在置入贯穿断面的过程中根据该优先次序来完成加工程序。
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