[发明专利]光刻胶保护膜用组合物、光刻胶保护膜及光刻胶图形形成方法无效
| 申请号： | 200510088468.1 | 申请日： | 2005-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN1727995A | 公开（公告）日： | 2006-02-01 |
| 发明（设计）人： | 音泽信行;岛田丰通 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/11;G03F7/09 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供能够适用于湿浸式刻蚀工艺的光刻胶保护膜、能够形成该保护膜的光刻胶保护膜用组合物、使用该光刻胶保护膜的光刻胶图形形成方法。该光刻胶保护膜用组合物含有含氟聚合物和溶剂(水、醇或含氟溶剂)，上述含氟聚合物具有选自－COOH、－SO3H、－OP(＝O)(OH) 2、－NR2及－N+R3Cl－ (R表示碳原子数1～4的烷基)中的一种或一种以上的官能团，重均分子量Mw为1千～10万。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 保护膜 组合 图形 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.光刻胶保护膜用组合物，其特征在于，含有含氟聚合物和溶剂，上述的含氟聚合物具有选自-COOH、-SO3H、-OP(＝O)(OH)2、-NR2及-N+R3Cl-(R表示碳原子数1～4的烷基)中的一种或一种以上的官能团，重均分子量Mw为1千～10万。
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