[发明专利]用含钾卤水生产低钠光卤石或氯化钾的方法无效

专利信息
申请号: 200510089210.3 申请日: 2005-07-25
公开(公告)号: CN1872686A 公开(公告)日: 2006-12-06
发明(设计)人: 魏新俊 申请(专利权)人: 魏新俊
主分类号: C01D3/04 分类号: C01D3/04;C01F5/30;C01D3/06
代理公司: 西宁正坤知识产权代理事务所 代理人: 姜艳华
地址: 816000青海省格尔木市昆仑路1*** 国省代码: 青海;63
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摘要: 发明属于盐化工技术领域,特别涉及一种用含钾卤水生产低钠光卤石或氯化钾的方法。该方法的特征是工艺流程为钾饱和液制备、兑卤析钾筛分除钠、光卤石洗涤、光卤石冷分解、过滤干燥五个工序,光卤石洗涤工序后即可得固体低钠光卤石产品,兑卤析钾筛分除钠后将光卤石用淡水冷分解、过滤干燥两道工序处理后即得氯化钾产品。本方法用筛分方法除去兑卤矿浆中细颗粒氯化钠,它可节约大量设备投资,减少了装置用电负荷,大幅度地减少了生产成本,可供选择的两种产品均可获得高额利润,大幅度地增加了产品附加值,有较显著的经济效益。
搜索关键词: 用含钾 卤水 生产 光卤石 氯化钾 方法
【主权项】:
1、一种用含钾卤水生产低钠光卤石或氯化钾的方法,其特征是它的工艺流程为钾饱和液制备、兑卤析钾筛分除钠、光卤石洗涤,工艺条件为钾饱和液制备工序中含钾卤水在常温条件下蒸发浓缩至钾矿物饱和得钾饱和液,兑卤析钾筛分除钠工序钾饱和液∶老卤体积比为1∶1~4,兑卤析钾后的矿浆用120目~40目的标准筛筛分,光卤石洗涤工序在常温下,光卤石∶钾饱和液体积比为1∶0.3~3.5,洗涤时间为5~30分钟后固液分离,固体为低钠光卤石产品。
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