[发明专利]生产光学波导的方法有效
| 申请号： | 200510089320.X | 申请日： | 2005-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1734302A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 宗和范;望月周;清水裕介;内藤龙介;薄井英之 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种生产光学波导的方法，其包括以下步骤：连续地涂覆芴衍生物层到连续基片上，并固化该层从而形成下部包层；连续地涂覆光敏性芴衍生物层到下部包层上；通过具有预定图案的光掩模连续地曝光涂覆了的光敏性芴衍生物层；连续地对曝光了的光敏性芴衍生物层进行曝光后加热；连续地显影加热的光敏性芴衍生物层以除去其中未曝光的区域，从而形成预定的图案；固化显影了的光敏性芴衍生物层，从而在下部包层上形成具有预定图案的芯层；和在下部包层上连续地涂覆芴衍生物层，以覆盖芯层，并固化芴衍生物层从而形成上部包层。 | ||
| 搜索关键词： | 生产 光学 波导 方法 | ||
【主权项】：
1.一种生产光学波导的方法，其包括以下步骤：连续地将芴衍生物层涂覆到连续基材上，并固化该层从而形成下部包层；连续地将光敏性芴衍生物层涂覆到该下部包层上；通过具有预定图案的光掩模连续曝光涂覆了的光敏性芴衍生物层；连续对曝光了的光敏性芴衍生物层进行曝光后加热；连续显影加热后的光敏性芴衍生物层以除去其中未曝光的区域，从而形成预定图案；固化显影后的光敏性芴衍生物层，从而在下部包层上形成具有预定图案的芯层；和连续地将芴衍生物层涂覆到下部包层上以覆盖芯层，并固化芴衍生物层从而形成上部包层。
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