[发明专利]图案数据创建与半导体器件制造方法及计算机可读介质无效
申请号: | 200510089595.3 | 申请日: | 2005-08-05 |
公开(公告)号: | CN1841387A | 公开(公告)日: | 2006-10-04 |
发明(设计)人: | 片濑秀二;高桥和彦;峰村雅彦;长田秀二 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50;G03F1/08 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张龙哺;郑特强 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供图案数据创建与半导体器件制造方法及计算机可读介质。该图案数据创建方法创建曝光掩模上的掩模图案数据,曝光掩模具有分割成多个单位区域的表面,并且该掩模图案数据包括多个图案数据部分,为多个单位区域中的一个单位区域定义每个图案数据部分,每个图案数据部分包括:该单位区域中包含的图案的图案信息以及指示曝光掩模的表面上该单位区域的位置的报头信息。该图案数据创建方法包括如下步骤:在所述多个单位区域的一部分中,利用新的图案信息替换该掩模图案数据部分中的图案信息;以及重组其中替换了图案信息的那个单位区域的报头。 | ||
搜索关键词: | 图案 数据 创建 半导体器件 制造 方法 计算机 可读 介质 | ||
【主权项】:
1、一种图案数据创建方法,用于创建曝光掩模上的掩模图案数据,所述曝光掩模具有分割成多个单位区域的表面,所述掩模图案数据包括多个图案数据部分,为所述多个单位区域中的一个单位区域定义每个所述图案数据部分,每个所述图案数据部分包括所述单位区域中包含的图案的图案信息以及指示所述单位区域在所述曝光掩模的所述表面上的位置的报头信息;所述图案数据创建方法包括如下步骤:在所述多个单位区域的一部分中,利用新的图案信息替换所述掩模图案数据部分中的所述图案信息;以及重组其中替换了所述图案信息的所述单位区域的所述报头。
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