[发明专利]薄膜的制造方法及薄膜有效

专利信息
申请号: 200510090359.3 申请日: 2005-08-12
公开(公告)号: CN1733968A 公开(公告)日: 2006-02-15
发明(设计)人: 齐藤隆雄;中村幸则;近藤好正 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513;C23C16/27
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明在使用含有碳源的原料气体生成放电等离子体而形成薄膜时,可以得到品质良好的薄膜。在对置电极(4)、(5)的至少一个上设置基材(6)。通过在含有含碳源原料气体的气氛中,向对置电极(4)、(5)间施加脉冲电压而产生放电等离子体,在基材(6)上生成薄膜(7)。作为脉冲电压施加正脉冲和负脉冲,并且正脉冲和负脉冲的脉冲半幅值小于等于1000ns。
搜索关键词: 薄膜 制造 方法
【主权项】:
1.一种薄膜的制造方法,其特征在于,通过在含有含碳源原料气体的气氛中向对置电极间施加脉冲电压而产生放电等离子体,在基材上生成薄膜时,作为所述脉冲电压施加正脉冲和负脉冲,并且所述正脉冲和负脉冲的脉冲半幅值为10ns~1000ns。
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