[发明专利]一种测定光学镀层或镀层系统的物理特性的方法无效

专利信息
申请号: 200510090606.X 申请日: 2005-08-17
公开(公告)号: CN1811378A 公开(公告)日: 2006-08-02
发明(设计)人: 汉斯·格奥尔格·洛茨;于尔根·施罗德 申请(专利权)人: 应用薄膜有限责任与两合公司
主分类号: G01N21/17 分类号: G01N21/17;G06F19/00;G03F7/00;G01B11/02
代理公司: 北京邦信阳专利商标代理有限公司 代理人: 王昭林;张小英
地址: 德国阿*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种通过光谱透射和/或反射测量方法测定光学镀层或镀层系统的物理特性的方法,由此,根据透射和/或反射测量光谱,从已知值中选择或通过试验确定随波长变化而变化的折射率n0和/或消光系数k0的参考值;并且通过折射率和消光系数的与波长无关的变量常数Kn和Kk来描述表征该镀层的变量。
搜索关键词: 一种 测定 光学 镀层 系统 物理 特性 方法
【主权项】:
1.一种通过光谱透射和/或反射测量手段测定光学镀层或镀层系统的物理特性的方法,其特征在于:对于所述的镀层或镀层系统,根据透射和/或反射测量的光谱,从已知值选择或试验确定依赖波长的折射率n0和/或消光系数k0的参考值,以及分别由与波长无关的变量常数Kn和Kk测定与所述参考值的偏差;该偏差确定了所述镀层的特性,且该偏差由实际折射率n和/或消光系数k显示出。
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