[发明专利]成膜源、真空成膜装置、有机EL面板的制造方法无效
申请号: | 200510090814.X | 申请日: | 2005-08-16 |
公开(公告)号: | CN1741692A | 公开(公告)日: | 2006-03-01 |
发明(设计)人: | 安彦浩志;增田大辅;梅津茂裕 | 申请(专利权)人: | 日本东北先锋公司 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种真空成膜装置的成膜源(10),具有:分别收容多种成膜材料的多个材料收容部(11A、11B);加热各材料收容部(11A、11B)内的成膜材料的加热单元(12A、12B);按每种成膜材料喷出成膜材料的原子流或分子流的喷出口(13A、13B);将材料收容部和喷出口气密连通的喷出通道(141A、142A、143A、141B、142B、143B),在一个方向上延伸设置喷出同一成膜材料的单个或多个喷出口,将喷出口配置成使直线连接在该一个方向上延伸设置的喷出口的外缘而形成的带状喷出区域(S1A、S1B)在平面上至少一部分相互重合。由此,在进行成膜材料的混合时能容易进行成分比率的调整,防止成膜区域的偏差。 | ||
搜索关键词: | 成膜源 真空 装置 有机 el 面板 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种成膜源,是一种通过将多种成膜材料加热使其升华或蒸发而生成的多种成膜材料的原子流或分子流朝向同一被成膜面照射,使所述成膜材料成膜于所述被成膜面上的真空成膜装置的成膜源,其特征在于,具有:分别收容多种成膜材料的多个材料收容部;加热各材料收容部内的成膜材料的加热单元;按每种成膜材料而喷出所述成膜材料的原子流或分子流的喷出口;将所述材料收容部和所述喷出口气密连通的喷出通道,在一个方向上延伸设置喷出同一成膜材料的单个或多个所述喷出口,将所述喷出口配置成使直线连接在该一个方向上延伸设置的喷出口的外缘而形成的带状喷出区域在平面上至少一部分相互重合。
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