[发明专利]半导体基板洗涤液以及半导体基板的洗涤方法有效
| 申请号： | 200510091415.5 | 申请日： | 2005-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN1733879A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 富田宽;山田裕司;山田浩玲;石川典夫;阿部优美子 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/36 | 分类号： | C11D7/36;H01L21/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明开发一种洗涤液，其不蚀刻硅基板以及玻璃基板，且对由氧化铝粒子、二氧化硅粒子或者氮化硅粒子组成的粒子的除去能力高，还能够除去金属污染。本发明的半导体基板洗涤液组合物含有选自1分子中具有至少2个或更多个磺酸基的化合物、肌醇六磷酸和缩合磷酸化合物中的1种、2种或更多种、无机酸和水。本发明的半导体基板的洗涤方法包括第一工序和第二工序，其中，所述第一工序是用含有具有磺酸基的高分子化合物、肌醇六磷酸和缩合磷酸化合物中的1种、2种或更多种、无机酸和水的半导体基板洗涤液组合物洗涤半导体基板，所述第二工序是继第一工序之后，用纯水或溶解有臭氧气体的臭氧水或过氧化氢水洗涤所述半导体基板。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 洗涤液 以及 洗涤 方法 | ||
【主权项】：
1、一种半导体基板洗涤液组合物，其含有选自1分子中具有至少2个或更多个磺酸基的化合物、肌醇六磷酸和缩合磷酸化合物中的1种、2种或更多种、无机酸和水。
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