[发明专利]用于制造改进的氧化铈研磨颗粒及包括这种颗粒的组合物的方法无效
| 申请号： | 200510092009.0 | 申请日： | 2005-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN1766027A | 公开（公告）日： | 2006-05-03 |
| 发明（设计）人： | 苏在贤;李东峻;金男寿;文成泽;姜景汶;安峰秀 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09C1/00;C01F17/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 林宇清;谢丽娜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供用于制造改进的氧化铈研磨剂的方法，该氧化铈研磨剂适合于形成用于CMP工艺的浆料组合物。在更大的次级研磨颗粒中引入的主要氧化铈颗粒的条件下，通过铈前体化合物和杂质金属化合物的混合物的热处理制造氧化铈研磨剂。杂质金属和/或次级研磨颗粒内不完全氧化的铈的存在易于减小其机械强度，由此利用这种研磨剂减小CMP工艺过程中损坏衬底表面的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 改进 氧化 研磨 颗粒 包括 这种 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备氧化铈颗粒的方法，包括：在氧化环境下，加热铈前体化合物和次级金属化合物的混合物至约700℃和约900℃之间的热处理温度；以及在该热处理温度下保持混合物足够的处理时间，以获得热处理的产品，其中基本上所有铈前体化合物都已变为氧化铈(CeOx)，其中满足表达式0＜x≤2，以及其中氧化铈基本上引入所有的次级金属化合物作为次级金属氧化物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社，未经三星电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510092009.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
