[发明专利]分离栅极快闪存储器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200510092034.9 申请日: 2005-08-16
公开(公告)号: CN1917177A 公开(公告)日: 2007-02-21
发明(设计)人: 张格荥;钟武宗;黄宗正 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L21/8238 分类号: H01L21/8238;H01L21/8247;H01L21/336;H01L27/105;H01L27/115;H01L29/788
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种分离栅极快闪存储器,具备有基底、至少一有源层、多个元件隔离层、至少一存储单元。有源层设置于基底上,且突出基底表面。元件隔离层分别设置于有源层的两侧,且元件隔离层的表面低于有源层的表面。存储单元设置于基底上。存储单元包括堆栈栅极结构、选择栅极、源极区与漏极区。堆栈栅极结构至少包括跨过有源层的浮置栅极。选择栅极设置于堆栈栅极结构的第一侧,且跨过有源层。源极区设置于堆栈栅极结构的第二侧的有源层中,且延伸至浮置栅极下方,其中第二侧与第一侧相对。漏极区设置于选择栅极一侧的有源层中。
搜索关键词: 分离 栅极 闪存 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种分离栅极快闪存储器,包括:一基底;至少一有源层,设置于该基底上,且突出该基底表面;多个元件隔离层,分别设置于该有源层的两侧,且该些元件隔离层的表面低于该有源层的表面;至少一存储单元,设置于该基底上,该存储单元包括:一堆栈栅极结构,该堆栈栅极结构至少包括一浮置栅极,其中该浮置栅极跨过该有源层;一选择栅极,设置于该堆栈栅极结构的一第一侧,且跨过该有源层;一源极区,设置于该堆栈栅极结构的一第二侧的该有源层中,且延伸至该浮置栅极下方,其中该第二侧与该第一侧相对;以及一漏极区,设置于该选择栅极一侧的该有源层中。
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