[发明专利]优良的碱蚀刻加工性及冲压加工性的聚酰亚胺膜有效
申请号: | 200510092065.4 | 申请日: | 2002-06-17 |
公开(公告)号: | CN1781973A | 公开(公告)日: | 2006-06-07 |
发明(设计)人: | 小野和宏;藤原宽;赤堀廉一 | 申请(专利权)人: | 株式会社钟化 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张平元;赵仁临 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的聚酰亚胺膜,其满足抗撕裂传播性偏差CH在1.0g以下的条件(1),及/或浸渍在碱溶液中之后的溶胀系数CR在20.0以下的条件(2)。通过满足这些条件,可以提高聚酰亚胺膜的加工性,在蚀刻时或冲压加工时,可有效防止加工不良的发生,提高各工序的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 优良 蚀刻 加工 冲压 聚酰亚胺 | ||
【主权项】:
1.一种柔性印刷配线板的制造方法,其特征在于,包括冲压加工聚酰亚胺膜的工艺:所述聚酰亚胺膜的抗撕裂传播性偏差在1.0g或1.0g以下,且在分子中含有下式(1)表示的重复单元:其中,上式(1)中的R为及/或上述R中的n表示1~3的整数,X及Y各自独立地表示氢原子、卤原子、羧基、碳原子数为6或6以下的低级烷基或碳原子数为6或6以下的低级烷氧基,A表示-O-、-S-、-CO-、-SO2-或-CH2-,另外,上述R1选自:和以及上式(3)中的R2为选自下述组群的2价有机基团:和上述组群中的R3分别独立地为-CH3、-Cl、-Br、-F或-CH3O。
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