[发明专利]干蚀刻装置以及安装于其上的气孔装置有效
| 申请号： | 200510092109.3 | 申请日： | 2005-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1735313A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 江泓庆;张奕锟;洪国展;侯建州 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/3213;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种干蚀刻装置，其利用等离子体进行薄膜蚀刻。此干蚀刻装置由真空腔、上电极板、下电极板、等离子体真空放电区、电源以及气体出口所组成。其中，上电极板安装于真空腔内，且具有至少一气体入口，此气体入口用以导入工艺气体。下电极板亦安装于真空腔内，而等离子体真空放电区介于上电极板与下电极板之间。电源电连接上电极板与下电极板，用以提供等离子体真空放电区所需的电位差。气体出口连接真空腔与真空系统，用以维持真空腔内的等离子体状态。而上述的气体入口更具有一树脂层，用以保护气体入口免于被蚀刻影响。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 装置 以及 安装 气孔 | ||
【主权项】：
1、一种干蚀刻装置，其利用等离子体进行薄膜蚀刻，该干蚀刻装置至少包含：一真空腔；一上电极板，安装于该真空腔内，该上电极板包含至少一气体入口，用以导入一工艺气体；一下电极板，安装于该真空腔内；一等离子体真空放电区，位于该真空腔内，且介于该上电极板与该下电极板之间；一电源，电连接该上电极板与该下电极板，用以提供该等离子体真空放电区一电位差；以及至少一气体出口，连接该真空腔与一真空系统，用以保持该真空腔内的等离子体状态；其中，该至少一气体入口还包括一树脂层，该树脂层安装于该至少一气体入口。
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