[发明专利]顶部抗反射涂布组合物及用其形成半导体装置图案的方法有效
| 申请号： | 200510092115.9 | 申请日： | 2005-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1743956A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 郑傤昌;卜喆圭;金三英;林昌文;文承灿 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种顶部抗反射涂布组合物，其包括由右式1表示的产光酸剂，其中n为7至25之间。由于此顶部抗反射涂布组合物溶解一部分存在于底层感光剂顶部的产光酸剂，特别是在形成顶部抗反射涂层时，其可防止顶部形成厚部分。因此，使用此顶部抗反射涂布组合物可在半导体装置上形成垂直图案。 | ||
| 搜索关键词： | 顶部 反射 组合 形成 半导体 装置 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种顶部抗反射涂布组合物，其包含顶部抗反射涂布聚合物；由下式1表示产光酸剂，![]()
其中n为7至25之间；及有机溶剂。
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